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观察者网3月4日消息，中芯国际发布公告称，公司此前与荷兰半导体设备供应商阿斯麦尔（ASML）签订了一份价值约12亿美元（约合人民币77亿元）的购买协议，据经修订和重述的批量采购协议，两家公司已于2月1日重新签订协议，将期限延长至2021年12月31日。
据消息报道，在有关延长期限的公告中，中芯国际只简单将产品描述为一种“生产晶圆的产品”，但随后ASML在官网发布公告称，中芯国际采购的是深紫外线光刻机（DUV光刻机）。
无需美国许可？ASML：对华DUV光刻机出口不受限！
需要知道的是，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”的光刻机，是整个芯片生产制造环节最核心的设备，但在全球范围内，单是日本的尼康、佳能和荷兰的ASML三家企业，便占据了光刻机市场90%以上的份额，其中最高级的极紫外线光刻机（EUV）更是只有ASML一家有，这便造成一个不争的事实——光刻机成为了我国实现芯片国产化的关键制约因素。
据悉，早在2018年初，中芯国际便向ASML订购了一台价值1.2亿美元的EUV光刻机，按照订购协议，ASML本应2019年完成交付、2020年完成安装，但由于种种因素影响，这台EUV光刻机至今仍处于“未出库”状态。
幸运的是，虽然EUV光刻机未能交付，但据阿斯麦全球副总裁兼中国区总裁沈波表示，公司对向中国出口集成电路光刻机始终持开放态度；ASML CFO Roger Dassen也曾表示，在某些情况下，对华出口光刻机是不需要许可证的，例如DUV光刻机。据悉，此次中芯国际采购的DUV光刻机已可用于生产7nm及以上制程芯片。
市场分析还指出，鉴于中国市场已成为ASML重要的收入来源，未来其也将努力争取向中芯国际出售EUV光刻机。据ASML发布的财报，2020全年，公司在中国的销售占比同比增加6%至18%；截至目前，中企已买下超过700台光刻机。
100%绕开美国！中企28nm光刻机有望交付
虽然DUV光刻机购买不受限，7nm及以上制程的芯片制造有了保障，但若想“更进一步”，仍需EUV光刻机。面对美国的阻拦，我国是否有突围方法？
首先是“自力更生”。早在2008年，“国家队”便开始攻关光刻机，还为此专门成立了“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（简称02专项）。经过多年努力，02专项也已在部分技术领域取得了丰硕成果，例如2017年由中国科学院旗下研究机构——长春光机所牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收；2018年，由中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。
“国家队”交出了亮眼成绩单，企业也不落后。例如我国知名半导体设备制造商——上海微电子设备公司（SMEE）此前也宣布，公司采用国产以及日本零部件研发的28nm第二代深紫外（DUV）光刻机有望在2021年4季度实现交付。据了解，这台光刻机的生产及研发，100%绕开了美国的技术及设备。
除了“自立更生”外，寻求合作也是一条出路。据媒体报道，2020年10月，不少中资企业便计划向曾经的光刻机龙头企业——尼康、佳能两家日企共同出资，联手推进除EUV光刻机以外的新型光刻机的研发。总的来说，国产光刻机已加速崛起中。